发布时间:2017-09-28 15:30
TiN Hardmask PVD是集成电路制程中的一道重要工艺步骤,北方华创微电子基于多年集成电路PVD设备技术积累,针对性开发了exiTin Ⅱ H430 PVD设备,用于14 纳米TiN Hardmask薄膜沉积工艺,设备以全新的设计理念实现了多项技术突破。
作为中国集成电路制造设备的先行者,北方华创微电子秉持以客户需求为导向的持续创新理念,深耕发展,开拓创新,不断为集成电路产业提供设备技术支撑。
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